
在集成電路等半導體裝置制造工序中,要對半導體晶圓進行成膜處理及蝕刻處理等各種處理。在對晶圓進行加工制造工藝中,需要將晶圓加熱到一定溫度下進行,且對晶圓溫度的均勻性有非常嚴格的要求,因為晶圓溫度的均勻性對半導體芯片的質量有著非常重要的影響;同時還需要在真空、等離子體、化學氣體等環境下工作,這就要用到陶瓷加熱器。




圖 陶瓷加熱器結構,來源:JUMP
近年來,對半導體晶片成膜的膜的材質多樣化,有Si膜、SiN膜、SiO2膜、SiON 膜、W膜等,因此,需要能夠在 400℃左右~ 800℃左右的高溫區域內進行的處理的半導體制造裝置。鋁金屬加熱器的熱膨脹系數大,且有微粒產生的問題,不能在500℃以上溫度使用,具有局限性。陶瓷加熱器具有導熱性好、耐熱沖擊性好且加工性較好的優勢。
根據專利CN104582019A,將氮化鋁粉、氧化釔等材料球磨混合,噴霧干燥后進行模壓成型制成兩個生坯,脫脂燒結后得到燒結體。在燒結體之一的一側表面上利用絲網印刷涂布導電漿料,脫脂燒結,形成電阻發熱體;在另一燒結體的一側表面涂布以粘合用氮化鋁為主成分的材料,并進行脫脂燒結處理,使形成有以該粘合用氮化鋁為主成分的材料的面,和形成有電阻發熱體的面相互對置重合,進行接合。由此,制作出埋設有電阻發熱體的陶瓷基體。在晶片搭載面相反側的背面接合AlN制的圓筒形支持體。在接合時,使用以氮化鋁為主成分的接合材料進行化學接合。對該陶瓷基體加工埋頭孔,使電阻發熱體從背面在支持體的內徑區域露出,對電阻發熱體連接用于供電的外部端子,對外部端子連接供電線。
三、陶瓷加熱器國產化正當時

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原文始發于微信公眾號(艾邦陶瓷展):半導體設備用陶瓷加熱器(Ceramic Heater)國產化正當時
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