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日本產業技術綜合研究所(AIST)的傳感系統研究中心主任研究員平田研二、首席研究員秋山守人、主任研究員Anggraini Sri Ayu、研究員?浦泰資、主任研究員上原雅人、課題組長山田浩志,以及國立研究開發法人物質?材料研究機構的獨立研究者新津甲大組成的研究團隊,成功大幅提升了用于彈性波濾波器的氮化物壓電材料的性能。

圖 研究得到的ScAlN壓電常數(左)及薄膜結構示意圖(右)

智能手機等無線通信設備中,搭載了許多用于提取特定頻率帶信號的頻率濾波器。其中一種目前主流的濾波器是彈性波濾波器,它配備了由壓電材料制成的薄膜,薄膜的壓電性能會影響所能提取信號的頻率帶。預計隨著通信方式的發展,需要更高頻率帶的彈性波濾波器,因此對薄膜的壓電性能提升提出了更高的要求。

目前,添加了鈧(Sc)的氮化鋁(AlN)薄膜(ScAlN)因其具有高壓電性能,而被廣泛應用于彈性波濾波器的壓電材料。為了提高ScAlN的壓電性能,需要高濃度地將Sc固溶于AlN中,但Sc與AlN的混合性較差,因此尚未能實現模擬中預測的壓電性能。

此次,研究團隊在ScAlN薄膜中引入了作為底層的镥(Lu)金屬,以提高Sc的固溶量,成功獲得了在氮化鋁基壓電材料中世界最高的35.5 pC/N的壓電常數。通過此次研究方法和所獲得的知識,預計在高頻通信中使用的彈性波濾波器的性能將有顯著提升。

此外,該論文《Enhancing the Piezoelectric Performance of Nitride Thin Films Through Interfacial Engineering》已于2025年1月15日在《Materials Today》上在線發布。DOI:10.1016/j.mattod.2024.12.011

図1

圖 ScAlN的纖鋅礦結構和Lu的六方密排結構

研究人員嘗試在制備 ScAlN 薄膜時引入镥(Lu)金屬底層來改善壓電纖鋅礦相的結晶度和取向。由于Lu具有與纖鋅礦結構相同的六方晶體結構,因此有望在Sc添加量較高的情況下,Lu具有促進ScAlN結晶性和取向性維持的效果。

図2

圖 ScAlN 薄膜橫截面結構的電子顯微鏡圖像(左:無 Lu 底層,右:有 Lu 底層)

其結果是,AlN中Sc的固溶體量增加至50.8mol%,而之前認為Sc的最大固溶體量為43mol%。所制備薄膜的橫截面結構的電子顯微鏡圖像證實,在具有Lu底層的ScAlN薄膜中,纖鋅礦結構的結晶性和取向得到改善。當實際測量這些薄膜的壓電常數時,獲得了35.5 pC/N的壓電常數,大大超過了2018年報道的41 mol% Sc固溶體31.6 pC/N的先前記錄。與沒有Lu底層的情況相比,該值更接近第一性原理計算預測的值,表明ScAlN的潛在壓電性能已經實現。很明顯,與其他 AlN 基壓電材料相比,這是最高的壓電常數。到目前為止,人們一直認為,由于在含有大量 Sc 的固溶體 ScAlN 中難以獲得具有高結晶性和取向性的薄膜,因此 Sc 在壓電常數中的增高存在極限這表明,通過發揮創造力,績效仍有提升空間。

図3

圖 ScAlN薄膜的壓電常數與之前的實驗值和第一性原理計算預測值的比較

図4

圖 添加元素X的AlN中最大固溶量與壓電常數的關系

該研究成果有望應用于提高高頻通信中使用的彈性波濾波器的性能。此外,AlN的壓電特性正在被考慮用于對自動駕駛至關重要的距離傳感器,并且它還具有作為可提高傳感器靈敏度的材料的潛力。研究團隊計劃致力于開發將更高濃度的 Sc 融入 ScAlN 薄膜的技術,并將其擴展到其他材料系統。

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