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近日,深圳先進電子材料國際創新研究院 (簡稱“電子材料院”) 團隊在電磁屏蔽材料領域取得新進展,相關成果發表于材料領域國際著名期刊《Small Methods》上(20232201694)。電子材料院萬艷君副研究員等成員提出了一種有效的策略,通過氫鍵和配位鍵的協同作用提高MXene的化學穩定性并改善組裝膜的力學性能。MXene在電磁屏蔽材料領域具有潛在應用價值,但其化學不穩定和機械脆性限制了其實際應用,提高其化學穩定性或機械性能的方法常常以犧牲電導率為代價,從而影響電磁屏蔽性能。這種協同策略不僅可以顯著提高材料的化學穩定性和力學強度,還可以保持良好的電導率和電磁屏蔽性能,為后續開發性能優異的多功能材料奠定了基礎。

院內成果 | 電子材料院在電磁屏蔽材料研究領域取得新進展

圖:a) MXeneMXene- cysCysteine薄膜的應力-應變曲線b) MXeneMXene- cys薄膜的隨時間變化的電磁屏蔽性能(EMI SE),c)層狀結構薄膜的電磁干擾屏蔽機理。

原文始發于微信公眾號(深圳先進電子材料國際創新研究院):院內成果 | 電子材料院在電磁屏蔽材料研究領域取得新進展

作者 gan, lanjie

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