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氮化硅( Si3N4 )是一種由硅和氮組成的共價(jià)鍵化合物,1857 年被發(fā)現(xiàn),到 1955 年,其作為陶瓷材料實(shí)現(xiàn)了大規(guī)模生產(chǎn)。氮化硅陶瓷具有金屬材料和高分子材料所不具備的眾多優(yōu)點(diǎn),如耐高溫(在 1200 ℃下抗彎強(qiáng)度可達(dá) 350 MPa 以上)、耐酸堿腐蝕、自潤(rùn)滑等,在航空航天、國(guó)防軍工、機(jī)械領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

一文了解氮化硅陶瓷粉末的制備方法
晶體結(jié)構(gòu)?Si3N4
氮化硅陶瓷材料的優(yōu)異特性隨著制備工藝的改進(jìn)得到充分發(fā)掘,這使其成為歷史上研究最多的陶瓷材料之一,商業(yè)用途得到快速發(fā)展。20?世紀(jì) 80?年代后的進(jìn)一步研究推動(dòng)了氮化硅基材料在許多工業(yè)方面的應(yīng)用,為研究不同應(yīng)用領(lǐng)域的氮化硅陶瓷材料提供了指導(dǎo)。
制備氮化硅陶瓷材料首先需要獲得氮化硅粉體,再經(jīng)過成型、燒結(jié)等工藝,最后得到所需要的氮化硅陶瓷,其中主要成型工藝有干壓成型、冷等靜壓成型、流延成型,主要燒結(jié)工藝有熱壓燒結(jié)、氣壓燒結(jié)(gas pressure sintering,GPS)、熱等靜壓燒結(jié)(hot isostatic pressure,HIP)、放電等離子燒結(jié)(spark plasma sintering,SPS)等。
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來源:中材高新
氮化硅粉體的制備
優(yōu)異性能的氮化硅粉體是制備高性能氮化硅陶瓷的基礎(chǔ),其主要制備方法有硅粉氮化法、液相反應(yīng)法、自蔓延高溫合成法等。
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■ 硅粉氮化法
硅粉氮化法的基本原理是硅粉和氮?dú)狻睔獾群獨(dú)怏w在高溫下進(jìn)行反應(yīng)生成氮化硅,該方法具有產(chǎn)品性能穩(wěn)定性好、成本低等優(yōu)點(diǎn),是應(yīng)用最廣泛、技術(shù)最成熟的氮化硅粉體批量化生產(chǎn)方法。
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▲氮化反應(yīng)過程示意圖
來源:https://hgxb.cip.com.cn/CN/10.11949/0438-1157.20210866
研究發(fā)現(xiàn),添加 30%的氮化硅粉作為稀釋劑可以提高硅粉的氮化效率,氮化效率由原來的 68%?提高到 95%?以上。國(guó)內(nèi)外工程化氮化過程中,都是添加了一定比例的氮化硅粉進(jìn)行生產(chǎn)。目前我國(guó)上海駿宇陶塑制品有限公司、安陽亨利高科實(shí)業(yè)有限公司等企業(yè),主要采用硅粉氮化法制備氮化硅粉。
■?液相反應(yīng)法
液相反應(yīng)法(又稱硅亞胺化學(xué)分解法)制備氮化硅粉的過程是將四氯化硅在零度干燥的乙烷中與一定量的無水氨氣發(fā)生反應(yīng),生成高純度的亞氨基硅和氨基硅,其在一定高溫下進(jìn)行熱分解生成無定型的氮化硅,無定型的氮化硅進(jìn)一步熱處理轉(zhuǎn)化成穩(wěn)定?α?相的氮化硅。
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▲日本宇部液氨法制備氮化硅產(chǎn)品流程及產(chǎn)品圖
來源:https://hgxb.cip.com.cn/CN/10.11949/0438-1157.20210866
此方法最大的特點(diǎn)是化學(xué)反應(yīng)激烈,生產(chǎn)速度快,可以獲得高純度氮化硅粉。但該方法制備難度大,技術(shù)門檻高,對(duì)原料的純度要求高,其難點(diǎn)在于不易獲得穩(wěn)定的固態(tài)亞氨基硅(Si(NH)2)。日本 UBE 公司是最早,也是唯一使用該方法規(guī)模化生產(chǎn)出性能優(yōu)異、質(zhì)量穩(wěn)定的氮化硅粉體產(chǎn)品的廠商。關(guān)于液相法的研究國(guó)內(nèi)處于科研攻關(guān)階段,目前還未見批量化生產(chǎn)方面的報(bào)道。
■ 自蔓延高溫合成法
自蔓延高溫合成法( self-propagation high-temperature synthesis,SHS)是近年來興起的一種制備無機(jī)化合物高溫材料新方法。其原理是依靠外部能量將金屬硅粉引燃,由于硅和氮?dú)獾姆磻?yīng)是放熱反應(yīng),反應(yīng)物一旦被引燃,便會(huì)自動(dòng)向尚未反應(yīng)的區(qū)域傳播,直至反應(yīng)完全。該方法合成氮化硅粉體反應(yīng)速度快,粉體純度高,成本低廉,但制備過程可控性差,氮化硅粉體?α?相含量低。
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▲自蔓延燃燒反應(yīng)合成氮化硅反應(yīng)示意圖及產(chǎn)品形貌圖
來源:https://hgxb.cip.com.cn/CN/10.11949/0438-1157.20210866

硅粉氮化法是技術(shù)最成熟、應(yīng)用最廣泛的氮化硅粉體批量化生產(chǎn)方法。德國(guó)的Alzchem、瑞典的H?gan?s(收購HC starck陶瓷粉末業(yè)務(wù)斯凱孚(收購VESTA Si)等國(guó)際著名粉體廠商均采用該方法批量化生產(chǎn)氮化硅粉。目前只有日本 UBE 公司掌握液相反應(yīng)法制備技術(shù)。國(guó)內(nèi)氮化硅粉企業(yè)有青島瓷興、衡陽凱新、新疆晶碩、河北高富等,多采用硅粉氮化法、自蔓延高溫合成法等方法制備。

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研究表明,顆粒形貌球形度越高、均勻性越好,越有利于氮化硅陶瓷燒結(jié)過程中顆粒重排,提高燒結(jié)致密性。目前我國(guó)在此領(lǐng)域與國(guó)外相比差距較大,工程化技術(shù)和質(zhì)量控制技術(shù)亟待提升,高端粉料的使用還主要依賴于進(jìn)口。所以制備高純、高?α?相含量、超細(xì)氮化硅粉體仍然是國(guó)內(nèi)氮化硅粉生產(chǎn)商攻克的方向。
來源:陳波,韋中華等,氮化硅陶瓷在四大領(lǐng)域的研究及應(yīng)用進(jìn)展

8月28-30日,浙江正天、艾森達(dá)、臻璟科技、康柏工業(yè)陶瓷、金銳高、錦業(yè)源等氮化硅陶瓷基板/結(jié)構(gòu)件、熱工裝備企業(yè)將參加艾邦第六屆精密陶瓷暨功率半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈展覽會(huì),地址:深圳國(guó)際會(huì)展中心7號(hào)館,歡迎各位行業(yè)朋友蒞臨參觀!

為加強(qiáng)陶瓷基板及其封裝行業(yè)上下游交流聯(lián)動(dòng),艾邦建有陶瓷基板產(chǎn)業(yè)群,歡迎涉及汽車、LED、5G、陶瓷封裝、陶瓷管殼、陶瓷基板及覆銅板生產(chǎn)企業(yè);氧化鋁、氮化鋁、氮化硅、氧化鈹、玻璃粉等陶瓷材料企業(yè);金屬銅箔、金屬焊料、金屬漿料等材料企業(yè);陶瓷粉體生產(chǎn)配制設(shè)備、陶瓷流延機(jī)、拋光研磨設(shè)備、打孔設(shè)備、填孔設(shè)備、印刷機(jī)、鍍膜設(shè)備、顯影設(shè)備、燒結(jié)爐、釬焊爐、X-RAY、AOI、超聲波掃描顯微鏡、自動(dòng)化組裝等加入微信群。
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推薦展會(huì):第六屆精密陶瓷暨功率半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈展覽會(huì)

同期舉辦:熱管理材料展

2024年8月28日-30日??

深圳國(guó)際會(huì)展中心7號(hào)館(寶安新館)
展出2萬平米、1,000個(gè)攤位、500多家展商、50,000名專業(yè)觀眾;匯聚IGBT/SiC功率半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈;熱管理材料產(chǎn)業(yè)鏈,精密陶瓷、電子陶瓷、陶瓷基板、薄膜/厚膜陶瓷電路板、陶瓷封裝管殼、LTCC/HTCC/MLCC加工產(chǎn)業(yè)鏈等產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)!

一、精密陶瓷產(chǎn)業(yè)鏈:

1、陶瓷器件及材料MLCC、LTCC、HTCC、微波介質(zhì)陶瓷、壓電陶瓷、鈦酸鋇、碳酸鋇、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、玻璃粉、氮化鋁、LTCC介質(zhì)陶瓷粉體、稀土氧化物、生瓷帶等;

2、精密陶瓷:氧化鋯、氧化鋁、氮化鋁、氮化硅、碳化硅、氧化釔、結(jié)構(gòu)陶瓷、高溫陶瓷、透明陶瓷、陶瓷微珠、新能源陶瓷、陶瓷軸承、陶瓷球、半導(dǎo)體陶瓷(搬運(yùn)臂、陶瓷劈刀、靜電卡盤、蝕刻環(huán)……)、3D打印陶瓷、燃料電池(SOFC)隔膜片、穿戴陶瓷、光纖陶瓷插芯、陶瓷套筒、CIM、生物陶瓷等。

3、陶瓷基板及封裝外殼:陶瓷封裝外殼、DPC、DBC、AMB、HTCC基板、LTCC基板、薄膜電路板、厚膜電路板、陶瓷封裝基座、熱沉、氧化鋁、氮化鋁、氮化硅、氧化鈹、莫來石粉體及基板等;

4、金屬材料:銀粉、金粉、銅粉、鎳粉、焊料(焊片、焊膏)、MLCC用內(nèi)/外電極漿料、LTCC銀漿、金漿、鎢鉬漿料、銅漿、靶材、無氧銅帶、可伐合金、金屬?zèng)_壓件等;

5、助劑:陶瓷和導(dǎo)電漿料用分散劑、黏合劑、增塑劑、絮凝劑、礦化劑、消泡劑、潤(rùn)滑劑、燒結(jié)助劑等;

6、設(shè)備:

陶瓷加工設(shè)備:砂磨機(jī)、球磨機(jī)、真空脫泡機(jī)、三輥機(jī)、噴霧造粒機(jī)、干壓機(jī)、流延機(jī)、注塑機(jī)、3D打印機(jī)、模具、干燥設(shè)備、研磨機(jī)、精雕機(jī)、裁片機(jī)、激光設(shè)備、打孔機(jī)、填孔機(jī)、絲網(wǎng)印刷機(jī)、疊層機(jī)、層壓機(jī)、等靜壓機(jī)、熱切機(jī)、整平機(jī)、排膠爐、燒結(jié)爐、釬焊設(shè)備、電鍍?cè)O(shè)備、化學(xué)鍍、噴銀機(jī)、浸銀機(jī)、端銀機(jī)、真空鍍膜設(shè)備、顯影設(shè)備、去膜設(shè)備、蝕刻機(jī)、濕制程設(shè)備、等離子清洗、超聲波清洗、自動(dòng)化設(shè)備、剝離強(qiáng)度測(cè)試儀、AOI檢測(cè)設(shè)備、打標(biāo)機(jī);

封裝測(cè)試設(shè)備:貼片機(jī)、引線鍵合機(jī)、封蓋機(jī)、平行縫焊封帽、切筋機(jī)、釬焊設(shè)備、激光調(diào)阻機(jī)、網(wǎng)絡(luò)分析儀、熱循環(huán)測(cè)試設(shè)備、測(cè)厚儀、氦氣檢漏儀、老化設(shè)備、外觀檢測(cè)、超聲波掃描顯微鏡、X-光檢測(cè)、激光打標(biāo)、分選設(shè)備、測(cè)包編帶機(jī)等;

7、耗材:離型膜、載帶(塑料和紙質(zhì))、耐火材料、承燒板/匣缽(氧化鋁、剛玉莫來石、氮化硼等)、承燒網(wǎng)、發(fā)泡膠、研磨耗材(金剛石微粉、研磨液)、精密網(wǎng)版、清洗劑、電鍍藥水等。

二、熱管理產(chǎn)業(yè)鏈:

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1、熱管理材料:氧化鋁、氮化鋁、氮化硼、石墨烯、石墨、碳納米管、空心玻璃微珠、導(dǎo)熱粉體、散熱基板、熱沉(鎢銅、鉬銅、氮化鋁、金剛石等)、鋁碳化硅AlSiC、相變材料、導(dǎo)熱凝膠、導(dǎo)熱界面材料、導(dǎo)熱墊片、導(dǎo)熱膠帶、灌封膠、熱管/均熱板;

2、散熱器件:半導(dǎo)體制冷片(TEC)、IGBT散熱器(銅、鋁)、大功率晶體管散熱器、通信基站散熱殼體、液態(tài)金屬散熱器、插針式散熱器等;

3、設(shè)備:壓延機(jī)、涂布機(jī)、分條機(jī)、模切機(jī)、復(fù)卷機(jī)、切片機(jī),CNC設(shè)備、壓鑄/沖壓設(shè)備、熱分析儀器、激光導(dǎo)熱儀、導(dǎo)熱系數(shù)儀、強(qiáng)度試驗(yàn)機(jī)、檢測(cè)設(shè)備、自動(dòng)化等。

三、功率半導(dǎo)體器件封裝產(chǎn)業(yè)鏈:

1、材料:碳化硅,陶瓷襯板(DBC、AMB)、封裝管殼、鍵合絲、散熱基板(銅、鋁碳化硅AlSiC)、導(dǎo)熱硅凝膠、環(huán)氧灌封膠、焊料(預(yù)制焊片)、銀膜/銀膏、散熱器(銅、鋁)、功率引出端子(銅端子)、外殼(工程塑料PPS、PBT、高溫尼龍)、清洗劑等;

2、設(shè)備及配件:真空焊接爐、貼片機(jī)、固晶機(jī)、引線鍵合機(jī)、X-ray、推拉力測(cè)試機(jī)、等離子清洗設(shè)備、點(diǎn)膠機(jī)、絲網(wǎng)印刷機(jī)、超聲波掃描設(shè)備、動(dòng)靜態(tài)測(cè)試機(jī)、點(diǎn)/灌膠機(jī)、銀燒結(jié)設(shè)備、垂直固化爐、甲酸真空共晶爐、自動(dòng)封蓋設(shè)備、高速插針機(jī)、彎折設(shè)備、超聲波焊接機(jī)、視覺檢測(cè)設(shè)備、推拉力測(cè)試機(jī)、高低溫沖擊設(shè)備、功率循環(huán)測(cè)試設(shè)備、打標(biāo)機(jī)、檢驗(yàn)平臺(tái)、治具等;

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作者 gan, lanjie

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