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第三代半導體(氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)、氧化鋅(ZnO)等)的崛起和發展推動了功率器件尤其是半導體器件不斷走向大功率,小型化,集成化和多功能方面前進,對封裝基板性能提升起到了很大的促進作用。

AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用
圖源自網絡

陶瓷基板也是陶瓷電路板在電子器件封裝中得到廣泛應用,主要是由于陶瓷基板具有高熱導率、耐高溫、較低的熱膨脹系數、高的機械強度、耐腐蝕以及絕緣性好、抗輻射的優點。

AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用
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陶瓷基板按照工藝分有很多種,除了直接鍵合銅(DBC)法、直接電鍍銅(DPC)法、激光活化金屬(LAM)法、低溫共燒陶瓷(LTCC)、高溫共燒陶瓷(HTCC)之外,還有目前備受關注的AMB法技術,即活性金屬釬焊技術

AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用
 AMB陶瓷基板 圖源自網絡

一、什么是活性金屬釬焊技術?

AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用

AMB工藝流程 圖源自網絡

活性焊銅工藝(AMB)是DBC工藝技術的進一步發展,工作原理為:在釬焊電子漿料中加入少量的活性元素(Ti,Zr,V,Cr等),采用絲印技術印刷到陶瓷基板上,其上覆蓋無氧銅后放到真空釬焊爐內進行燒結,然后刻蝕出圖形制作電路,最后再對表面圖形進行化學鍍。使用AMB技術制備的陶瓷覆銅板結構如圖下圖所示。

AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用

AMB工藝的陶瓷覆銅板結構圖

二、AMB陶瓷基板的技術特點

AMB技術是在DBC(直接覆銅法)技術的基礎上發展而來的。相比于傳統的DBC基板,采用AMB工藝制備的陶瓷基板,不僅具有更高的熱導率、更好的銅層結合力,而且還有熱阻更小、可靠性更高等優勢。

三、AMB陶瓷基板按材質分類

根據陶瓷材質的不同,目前成熟應用的AMB陶瓷基板可分為:氧化鋁、氮化鋁和氮化硅基板。

AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用

三種材料的部分性能對照表

3.1 AMB氧化鋁基板
 
 AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用
圖源自網絡

基于氧化鋁板材來源廣泛、成本最低,是當前性價比最高的AMB陶瓷基板,其工藝也最為成熟。但由于氧化鋁陶瓷的熱導率低、散熱能力有限,AMB氧化鋁基板多用于功率密度不高且對可靠性沒有嚴格要求的領域。

3.2 AMB氮化鋁基板

AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用

圖源自網絡

AMB基板具有較高的散熱能力,從而更適用于一些高功率、大電流的工作環境。但是由于機械強度相對較低,氮化鋁AMB覆銅基板的高低溫循環沖擊壽命有限,從而限制了其應用范圍。氮化鋁AMB基板具有較高的散熱能力,從而更適用于一些高功率、大電流的工作環境。但是由于機械強度相對較低,氮化鋁AMB覆銅基板的高低溫循環沖擊壽命有限,從而限制了其應用范圍。

3.2 AMB氮化硅基板

AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用


圖源自賀利氏官網


氮化硅陶瓷的熱膨脹系數(2.4ppm/K)較小,與硅芯片(4ppm/K)接近;AMB氮化硅基板具有較高的熱導率(>90W/mK)。AMB-Si3N4基板結合的機械性能具有優異的耐高溫性能、散熱特性和超高的功率密度。

對于對高可靠性、散熱以及局部放電有要求的汽車、風力渦輪機、牽引系統和高壓直流傳動裝置等來說,AMB氮化硅基板可謂其首選的基板材料。此外,載流能力較高,而且傳熱性也非常好。
 
四、AMB陶瓷基板的應用

與DBC陶瓷基板相比,AMB陶瓷基板具有更高的結合強度和冷熱循環特性。目前,隨著電力電子技術的高速發展,高鐵上的大功率器件控制模塊對IGBT模塊封裝的關鍵材料——陶瓷覆銅板形成巨大需求,尤其是AMB基板逐漸成為主流應用。

AMB活性金屬焊接陶瓷基板的性能及其應用

圖源自京瓷官網

日本京瓷采用活性金屬焊接工藝制備出了氮化硅陶瓷覆銅基板,其耐溫度循環(-40~125℃)達到5000次,可承載大于300A的電流,已用于電動汽車、航空航天等領域。該產品采用活性金屬焊接工藝將多層無氧銅與氮化硅陶瓷鍵合,同時采用銅柱焊接實現垂直互聯,對IGBT模塊小型化、高可靠性等要求有較好的促進作用。

另外,在大功率電力半導體模塊、高頻開關、風力發電、新能源汽車、動力機車、航空航天等應用領域取得了進展。

AMB基板是靠陶瓷與活性金屬焊膏在高溫下進行化學反應來實現結合,因此其結合強度更高,可靠性更好。但是由于該方法成本較高、合適的焊料較少、焊料對于焊接的可靠性影響較大,只有少數美日中幾家公司掌握了高可靠活性金屬焊接技術。

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作者 ab

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