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提純石英砂獲得高純石英是緩解天然水晶資源不足,滿足光學、半導體及微電子行業(yè)對高質(zhì)量石英玻璃材料需求的有效途徑。

天然石英砂的提純技術(shù)直接決定以天然石英礦為原料熔制石英玻璃的材料性能。

石英晶體結(jié)構(gòu)中的雜質(zhì)離子是形成石英玻璃氣泡、雜質(zhì)缺陷的主要因素之一。

金屬雜質(zhì)的存在對石英玻璃材料的固有性質(zhì)如石英玻璃的透過率、軟化點、折射率、熒光、膨脹系數(shù)等的影響非常大。

此外,鉀、鈉、鋰等堿金屬是極易擴散到硅片中的有害雜質(zhì),在半導體工業(yè)中對石英制品的堿金屬雜質(zhì)含量要求極為嚴格。

因此,需要進一步提純石英砂原料,大大降低其堿金屬含量。

傳統(tǒng)的石英砂提純工藝流程為:水洗酸浸焙燒水碎二次酸浸。

在傳統(tǒng)提純工藝中,主要用氯化焙燒工藝去除石英砂晶格內(nèi)的雜質(zhì)元素。

氯化焙燒又稱為氯化脫氣,不同的氯化劑與晶格雜質(zhì)的作用方式和效果存在較大差異。本研究采用不同的氯化劑,如干燥的HCl、Cl2、Cl2HCl混合氣體對石英砂進行高溫氯化提純試驗。

結(jié)果表明高溫氯化處理均對Na、FeK的去除效果明顯;探究氯化時間、氯化溫度等參數(shù)對石英砂提純效果的影響規(guī)律,發(fā)現(xiàn)干燥HCl氣體對石英砂提純效果最好,提純后石英砂的NaFe、K等雜質(zhì)含量大幅下降。

01

試驗過程

采用國內(nèi)石英砂1、國內(nèi)石英砂2、國外石英砂3作原料,雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù)見表1。
氯化劑采用的是干燥的Cl2(純度99.5%)HCl氣體(純度99.5%)及其不同比例的混和氣體。
自主設(shè)計并制造了氯化焙燒裝置,如圖1所示。
石英砂高溫氯化提純研究

石英砂高溫氯化提純研究

圖1 ?氯化焙燒裝置

1—石英玻璃筒;2—螺旋狀石英玻璃擋板;3—電加熱線圈;

4—升降支架;5—底座;6—旋轉(zhuǎn)電機;7—保溫層;8—旋轉(zhuǎn)軸承。?
由式(1)~(3)可知,石英砂顆粒表層的金屬和殘余的包裹體等雜質(zhì)在高溫下與HCl反應生成氣態(tài)氯化物,高溫氣流將這些雜質(zhì)元素的氯化物帶走,從而達到深度提純石英砂的目的。

Fe(OH)3+3HCl=FeCl3+3H2O ??(1)

Fe2O3+6HCl=2FeCl3+3H2O ???(2)

Al2O3+6HCl=2AlCl3+3H2O? ??(3)
設(shè)計的氯化提純試驗過程為:稱取一定量經(jīng)水洗后的石英砂放入氯化焙燒裝置,通入N2趕盡空氣,然后通入氯化劑與石英砂混合均勻,最后將溫度升至焙燒溫度并保持一定時間。
需要注意的是,高溫氯化結(jié)束后,需再用N2排盡焙燒尾氣。
氯化焙燒過程中產(chǎn)生的有害尾氣通過堿液吸收處理。洗滌烘干提純后的石英砂產(chǎn)品,對其中的主要雜質(zhì)元素AlFeNaK進行質(zhì)量分數(shù)分析。
在氯化劑過量的情況下,進行了4種方案的高溫氯化試驗。

02

結(jié)果與討論

  • 試驗方案1
    稱取4kg經(jīng)水洗烘干后的國內(nèi)石英砂1放入氯化焙燒裝置內(nèi),通入不同組成的氯化劑(干燥Cl2150g、干燥HCl 300g、干燥HCl 150gCl2?75g的混合氣體)與石英砂混合均勻,在1000℃下,高溫焙燒2h
    不同氯化劑對石英砂提純的效果見表2,并對氯化前后石英砂中K、NaFeAl四種主要元素的雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù)下降百分比進行了分析,結(jié)果見圖2。

    ??表2 ?不同氯化劑對石英砂的提純效果 單位:μg/g

    石英砂高溫氯化提純研究
    由表2和圖2可見,不同種類的氯化劑對Na、Fe、K的去除均有明顯效果,說明本試驗氯化提純工藝可以降低石英砂產(chǎn)品中雜質(zhì)尤其是NaKFe元素雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù),使石英砂總雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù)有一定程度降低,這對提升石英砂品質(zhì)意義重大。
    國產(chǎn)石英砂1中主要雜質(zhì)元素為Al,但不同氯化劑對雜質(zhì)元素Al的去除效果不明顯。
    比較不同氯化劑對石英砂氯化提純的效果,可以發(fā)現(xiàn)使用干燥HCl氣體對雜質(zhì)Na的去除效果要大大優(yōu)于HClCl2的混合氣體和單獨的Cl2。
    其中,干燥HCl氣體對雜質(zhì)Fe的去除率為82.9%、對雜質(zhì)Na的去除率為73.8%、對雜質(zhì)K的去除率為30%。

    石英砂高溫氯化提純研究

    圖2? 不同氯化劑作用下Al、Fe、Na、K雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù)下降率
    稱取4kg不同品種(國內(nèi)石英砂1、國內(nèi)石英砂2、國外石英砂3)的石英砂,先經(jīng)過水洗。
    在氯化焙燒裝置內(nèi)通入干燥HCl氣體300g4kg不同品種石英砂混合均勻,在1000℃下焙燒2h,得到提純后的石英砂產(chǎn)品。
    HCl氣體對不同品質(zhì)的石英砂氯化提純后的主要雜質(zhì)的質(zhì)量分數(shù)的影響見表3。

    表3 ?HCl對不同品質(zhì)的石英砂氯化提純結(jié)果? ? 單位:μg/g

    石英砂高溫氯化提純研究
    對比表3和表1數(shù)據(jù)可知,本試驗方案可將國外石英砂3的總雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù)從16.24×10-6降低至13.61×10-6,且提純后鉀鈉元素總質(zhì)量分數(shù)低于1×10-6,降低了46.0%;可將國內(nèi)石英砂2的總雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù)從36.75×10-6降低至25.87×10-6,且鈉鉀元素總質(zhì)量分數(shù)由7×10-6降至1×10-6以下,降低了88.9%。
    稱取4kg國內(nèi)石英砂2,先經(jīng)過水洗。在氯化焙燒裝置內(nèi)通入干燥HCl氣體300g與國內(nèi)石英砂2混合均勻,在1000℃下,分別氯化焙燒1、2、34h,得到提純后的石英砂產(chǎn)品。氯化時間對石英砂氯化提純后主要雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù)的影響見表4。

    表4 ?氯化時間對石英砂氯化提純的影響???????? ?單位:μg/g?

    由表4可知,國內(nèi)石英砂2氯化提純的時間為2h時,對降低Na、KFe元素雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù)有顯著效果,但延長氯化時間并不能提高對石英砂金屬雜質(zhì)的去除效果。
    稱取4kg國內(nèi)石英砂2,先經(jīng)過水洗。在氯化焙燒裝置內(nèi)通入干燥HCl氣體300g與石英砂混合均勻,在不同溫度(900、950、1000、1050)條件下,氯化焙燒2h得到提純后的石英砂產(chǎn)品。
    不同氯化溫度對石英砂氯化提純效果的影響見表5

    表5 ?不同氯化溫度對石英砂氯化提純的影響??? 單位:μg/g?

    石英砂高溫氯化提純研究
    由表5可知,石英砂氯化提純的加熱溫度為1000℃時,對降低Na、KFe元素雜質(zhì)質(zhì)量分數(shù)效果尤為顯著。升高溫度至1050℃,并不能提高對石英砂雜質(zhì)元素的去除效果。
    分析上述試驗現(xiàn)象,認為HCl焙燒提純工藝具有最佳提純效果的原因是高晶格雜質(zhì)含量石英在氯化提純過程中存在反應和逸出兩個階段:
    a.反應階段:雜質(zhì)離子(Al3+、Fe3+)代替晶格內(nèi)的Si4+,陽離子(K+Na+)立即轉(zhuǎn)變?yōu)橛坞x態(tài)在晶格空隙中起電荷補償作用,石英砂顆粒內(nèi)部的堿金屬雜質(zhì)在高溫下與HCl反應生成氣態(tài)氯化物;
    因此石英砂晶格內(nèi)部的熱缺陷在高溫振動下處于不斷形成與斷裂的動態(tài)平衡中,原本完全無序的缺陷遷移運動,由于石英表面和內(nèi)部形成了濃度梯度,在這種外力場的作用下,石英砂顆粒內(nèi)部的熱缺陷緩慢且定向地朝表面運動,使石英砂顆粒內(nèi)部的金屬雜質(zhì)缺陷逐漸減少。
    b.逸出階段:由式(1)~(3)可知,反應階段生成的水和部分沸點低于焙燒溫度的金屬氯化物揮發(fā)逸出到石英砂顆粒表面并向體系內(nèi)擴散,導致其表面生成物濃度較低,平衡反應更容易向右進行;由于石英砂內(nèi)部熱缺陷的遷移速率和其他因素的影響,其產(chǎn)生的肖特基缺陷很難完全遷移至表面,因此石英砂表面的晶格雜質(zhì)在氯化焙燒過程中得以去除。
    • 試驗方案4
    • 試驗方案3
    • 試驗方案2

03

結(jié)論

a.采用高溫氯化工藝進行石英砂提純試驗,可以有效去除石英砂中的雜質(zhì),工藝簡單易行,具有較好的工業(yè)應用前景。

b.試驗表明,高溫氯化工藝可以很好地降低Fe、Na、K雜質(zhì)的含量,但對雜質(zhì)元素Al沒有很好的去除效果。

c.該工藝最優(yōu)參數(shù)為:干燥的HCl氣體300g,焙燒溫度1000℃,焙燒時間2h

來源:婁陳林等,《石英砂高溫氯化提純研究
END

原文始發(fā)于微信公眾號(光伏產(chǎn)業(yè)通):石英砂高溫氯化提純研究

作者 li, meiyong

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