根據(jù)DOE標(biāo)準(zhǔn),腐蝕電流和接觸電阻是涂層工藝的關(guān)鍵，對涂層質(zhì)量和性能產(chǎn)生影響。

腐蝕主要來源：化學(xué)腐蝕與電化學(xué)腐蝕（點狀腐蝕、涂層中柱狀晶針孔造成的腐蝕），雙極板制造過程中應(yīng)力造成的腐蝕 。

涂層結(jié)構(gòu)組織的復(fù)合化和納米化，有利于提升雙極板的耐蝕性、導(dǎo)電性，其對于提升氫燃料電池的性能及保證其運行的穩(wěn)定性和耐久性具有重要作用。

常用的涂層主要分為金屬基涂層（貴金屬、金屬碳/氮化物）、非金屬涂層和復(fù)合涂層 。

但有些涂層的成本較高，如貴金屬涂層，量產(chǎn)化困難；非金屬涂層主要是石墨基涂層它們具有制備簡單、成本低的特點，但存在耐蝕性差和結(jié)合力差的問題；復(fù)合涂層結(jié)合了金屬涂層和非金屬涂層的優(yōu)點，在具有一定耐蝕性的基礎(chǔ)上，可以保持良好的導(dǎo)電性。

為助力氫能源發(fā)展，廣東匯成真空（HCVAC）開發(fā)了適用于金屬雙極板的涂層及涂層設(shè)備體系。目前涂層后的金屬雙極板導(dǎo)電性和耐腐蝕性均得到顯著提升，滿足DOE標(biāo)準(zhǔn)。

主要采用技術(shù)高功率脈沖磁控濺射+磁控濺射（HIPIMS+MS）或者高功率脈沖磁控濺射+電弧（HIPIMS+ARC）技術(shù)制備鈦+超級導(dǎo)電石墨（Ti+SCG）涂層。

HIPIMS技術(shù)

高功率脈沖磁控濺射(HIPIMS)技術(shù)是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來產(chǎn)生高濺射金屬離化率、高能量離化粒子的一種磁控濺射技術(shù)，使用Hipims技術(shù)制備的薄膜具有結(jié)構(gòu)致密、表面光滑、膜基結(jié)合力高、均勻性好等優(yōu)點 。

優(yōu)點：

●與現(xiàn)有濺射系統(tǒng)兼容

●提高等離子體密度

●濺射粒子離化，具有高能量

●優(yōu)異的填孔沉積（高臺階覆蓋率）

●低溫沉積晶化薄膜

●獲得高致密、高性能薄膜

HIPIMS技術(shù)與雙極板涂層

涂層影響因素可以主要分為工作環(huán)境、工作條件兩大類。在電堆運行的過程中，溫度、PH值、氫氣濃度及壓力等改變都會影響它的性能。包括電勢、瞬態(tài)電勢等也會對它有一定的影響，所以需要優(yōu)化涂層結(jié)構(gòu)，以提高整個電堆的性能。

HCVAC作為一家專業(yè)真空設(shè)備供應(yīng)商，公司致力于推動雙極板涂層產(chǎn)業(yè)化，所有的開發(fā)涂層工藝測試基于量產(chǎn)化；HIPIMS技術(shù)與現(xiàn)有濺射系統(tǒng)兼容，高能量、可以獲得高致密、高性能薄膜的特性，因此用HIPIMS+MS來制備Ti+SCG復(fù)合涂層，改善膜層導(dǎo)電和耐蝕性能 。

HCVAC雙極板涂層設(shè)備

HCVAC推出適用于客戶小批量生產(chǎn)到大批量生產(chǎn)的立式多腔室連續(xù)涂層設(shè)備，采用模塊化設(shè)計，可以方便的對設(shè)備進(jìn)行擴(kuò)展；滿足了大批量工業(yè)生產(chǎn)需求，多腔室連續(xù)涂層設(shè)備可以有效的突破雙極板涂層生產(chǎn)瓶頸，為雙極板工業(yè)化生產(chǎn)提供切實有效的解決方案。

“交鑰匙工程”實現(xiàn)提質(zhì)降本

做好金屬雙極板板涂層，必須靠工藝、設(shè)備和材料三方面的優(yōu)勢互補(bǔ)與深度融合。在此基礎(chǔ)上HCVAC提出了“交鑰匙工程”設(shè)備解決方案，可以根據(jù)客戶需求提供定制化真空應(yīng)用解決方案，在鍍膜工藝、設(shè)備、材料和售后等環(huán)節(jié)整體統(tǒng)一與有效協(xié)同，幫助企業(yè)降低涂層成本。