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荷蘭半導體公司阿斯麥爾(ASML)周一表示，其位于德國柏林市的一家工廠發(fā)生火災，沒有人員受傷，目前要評估對營運的影響還太早。
其位于柏林市東部的工廠遭遇火災，廠房部分區(qū)域受損，自動清洗設備噴灑了約200平方公尺的廠房。
據(jù)柏林市消防單位指稱，一個自動火警系統(tǒng)觸發(fā)了警報，消防隊到達時，該棟建筑物已經(jīng)清理完畢，約有80名工作人員參與滅火工作。
消防部門說，生產(chǎn)設備目前不可用，火災原因和損失程度仍不清楚。

突發(fā)！ASML德國工廠起火，損失程度仍不清楚

該柏林工廠名為Berliner Glas，為阿斯麥爾的光刻機系統(tǒng)的零件制造和供應工廠。光刻機(微影機)是用來制造IC芯片的大型機器。Berliner Glas是光學、機械及電子系統(tǒng)解決方案的開發(fā)商，生產(chǎn)的零組件包括晶圓固定工作臺、光罩吸盤、反射鏡。
阿斯麥爾在聲明中表示，該事件是否會對今年的產(chǎn)出計劃造成任何影響，在這個時間點上發(fā)表任何聲明都為時尚早。阿斯麥爾補充說，評估損失仍要幾天時間，將會盡快地公布。
早前ASML CEO曾指出，疫情持續(xù)加速數(shù)字化轉(zhuǎn)型，為解決芯片缺貨問題，IDM廠、晶圓代工廠、存儲器廠均擴大投資提高產(chǎn)能，且投資項目聚集在先進制程產(chǎn)能，進一步推動邏輯IC及DRAM的EUV設備強勁需求。ASML今年EUV設備產(chǎn)能約達45～50臺且供不應求，明年預期將提高至55臺，且都將用于生產(chǎn)效率提升15％的新一代NXE: 3600D曝光機，新機臺在客戶晶圓廠每小時曝光產(chǎn)量（throughput）已達160片。
根據(jù)ASML召開分析師會議中資料，隨著邏輯IC制程明年跨入3納米世代，DRAM制程微縮至14納米以下，單片晶圓EUV曝光光罩層數(shù)正在快速提升，ASML預估先進邏輯制程晶圓2021年EUV曝光層數(shù)平均已逾10層，至2023年將增加到逾20層，EUV光刻機未來幾年都會供不應求，ASML的EUV光刻機訂單一路滿到2025年。
隨著EUV光刻技術變得越來越重要，ASML的優(yōu)勢也越發(fā)明顯。
不過，光刻機供貨商除阿斯麥之外，還有日本廠商尼康(Nikon)和佳能(CAJ.US)，這兩家在深紫外線(DUV，光源波長比EUV長)的光刻技術上能與ASML競爭，但ASML作為企業(yè)龍頭，在DUV光刻領域，也擁有62%的市場份額。
但是在EUV領域，只有ASML一家能生產(chǎn)。
有分析師表示，大火可能會限制ASML產(chǎn)量(至少在短期內(nèi))，從而阻礙計劃中的晶圓代工生產(chǎn)。
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原文始發(fā)于微信公眾號（滿天芯）：突發(fā)！ASML德國工廠起火，損失程度仍不清楚

作者 ran, xuguang

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