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半導(dǎo)體材料是指在常溫下導(dǎo)電性能介于絕緣體與導(dǎo)體之間的材料,電阻率在10-3~108Ωcm。半導(dǎo)體材料是制作晶體管、集成電路、電力電子器件、光電子器件的重要基礎(chǔ)材料。(https://www.ab-sm.com/)
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圖源:東芝
半導(dǎo)體材料的種類繁多,按照化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體(Si、Ge)、化合物半導(dǎo)體(GaAs、SiC、GaN)和固溶體半導(dǎo)體;按組成元素可分為一元、二元、三元、多元等;按晶態(tài)可分為多晶、單晶和非晶;按應(yīng)用方式可分為體材料和薄膜材料。體材料是單晶制片后直接用于制造半導(dǎo)體的材料,薄膜材料是在半導(dǎo)體材料或其他材料的襯底上生長(zhǎng)的,純度和晶體完整性較好,適用于三維電路制造。
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圖 ?半導(dǎo)體材料,來(lái)源:東芝

一代材料,一代技術(shù), 一代產(chǎn)業(yè)。半導(dǎo)體材料經(jīng)過多年的發(fā)展,目前可以分為三代,形成了以硅為主,氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等半導(dǎo)體新材料增強(qiáng)補(bǔ)充的產(chǎn)業(yè)局面:

表 ? 主要半導(dǎo)體材料的性能特點(diǎn)及應(yīng)用

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Si、SiC、GaN性能比較

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1、第一代半導(dǎo)體材料

第一代半導(dǎo)體材料:硅(Si)、鍺(Ge)等元素半導(dǎo)體材料
  • 特點(diǎn):硅材料儲(chǔ)量豐富、價(jià)格低廉、熱性能與機(jī)械優(yōu)良、易于生長(zhǎng)大尺寸高純度晶體等特點(diǎn),處于成熟發(fā)展階段。但硅材料的物理性質(zhì)限制了其在光電子和高頻高功率器件上的應(yīng)用。

     

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圖 ?硅片,來(lái)源:中欣晶圓
  • 興起時(shí)間:20世紀(jì)50年代
上世紀(jì)50年代,鍺在半導(dǎo)體中占主導(dǎo)地位,主要用于低電壓、低頻、中功率器件,1958年由德州儀器公司杰克·基爾比發(fā)明的世界上第一塊集成電路就是基于鍺,但由于鍺的耐高溫、抗輻射性能較差,到60年代后期逐漸被硅取代。硅材料是目前產(chǎn)量最大、應(yīng)用最廣的半導(dǎo)體材料,95%以上的半導(dǎo)體產(chǎn)品是用硅材料制作的。
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圖 ?1958年,基爾比發(fā)明了世界上第一塊基于鍺的集成電路
  • 應(yīng)用領(lǐng)域:消費(fèi)電子、通信、光伏、軍事以及航空航天等。
以硅為代表的第一代半導(dǎo)體材料,取代了笨重的電子管,導(dǎo)致了以集成電路為核心的微電子工業(yè)的發(fā)展和整個(gè)IT 產(chǎn)業(yè)的飛躍,廣泛應(yīng)用于信息處理和自動(dòng)控制等領(lǐng)域。

2、第二代半導(dǎo)體材料

第二代半導(dǎo)體材料:砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)、磷化鎵(GaP)、砷化銦(InAs)、砷化鋁(AlAs)及其合金等。
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圖 ?GaAs晶圓,來(lái)源:CMK
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  • 興起時(shí)間:20世紀(jì)70年代
以光纖通信為基礎(chǔ)的信息高速公路和互聯(lián)網(wǎng)的興起,GaAs、InP等第二代半導(dǎo)體材料開始嶄露頭角。磷化銦半導(dǎo)體激光器是光通信系統(tǒng)的關(guān)鍵器件,砷化鎵高速器件更開拓了光纖及移動(dòng)通信新產(chǎn)業(yè)。
  • 特點(diǎn):與硅相比,第二代半導(dǎo)體材料具有禁帶寬度大、電子飽和漂移速度高、光電特性好、耐高溫、抗輻射等特性。但由于GaAs、InP材料資源稀缺、大尺寸制備困難、價(jià)格昂貴、有毒性、污染環(huán)境,應(yīng)用受到一定局限。
  • 應(yīng)用領(lǐng)域:衛(wèi)星通訊、移動(dòng)通訊、光通信和GPS導(dǎo)航等領(lǐng)域。

3、第三代半導(dǎo)體材料

第三代半導(dǎo)體材料:寬禁帶(Eg> 2.3eV ) 的半導(dǎo)體材料包括氮化硅(SiC)、硒化鋅(ZnSe)、金剛石和氮化鎵(GaN)等。
  • 特點(diǎn):第三代半導(dǎo)體材料具備擊穿電場(chǎng)高、熱導(dǎo)率大、電子飽和漂移速率高、抗輻射能力強(qiáng)等優(yōu)越性能

 

  • 興起時(shí)間:20世紀(jì)90年代
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圖 ? SiC晶圓,來(lái)源:BOSCH
  • 應(yīng)用領(lǐng)域:新能源與智能電網(wǎng)領(lǐng)域、軌道交通與新能源汽車領(lǐng)域、5G通訊和物聯(lián)網(wǎng)領(lǐng)域、光電子與顯示領(lǐng)域、消費(fèi)類電子和工業(yè)電機(jī)領(lǐng)域、航空航天與軍工領(lǐng)域等。

目前研發(fā)較為成熟的材料是SiC和GaN等,其中氮化硼、氮化鋁和金剛石等材料的研究則尚屬于起步階段。

半導(dǎo)體材料是器件研發(fā)的基礎(chǔ),半導(dǎo)體材料的發(fā)展必然要依賴于后期器件的開發(fā)應(yīng)用,而器件的開發(fā)應(yīng)用同時(shí)受制于材料的發(fā)展。半導(dǎo)體器件由同質(zhì)結(jié)、異質(zhì)結(jié)轉(zhuǎn)向基于量子阱、量子線、量子點(diǎn)器件的設(shè)計(jì)與制造,這一轉(zhuǎn)向改變了半導(dǎo)體材料的發(fā)展方向,在傳統(tǒng)第一、第二代半導(dǎo)體材料發(fā)展的同時(shí),加速發(fā)展寬禁帶第三代半導(dǎo)體材料的趨勢(shì)。

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