據媒體報道，半導體設備廠京鼎成功跨入EUV光罩自動化領域，3奈米半導體制程自動化惰性氣體充填設備及層流氣簾潔凈方案通過客戶驗證。

瞄準極紫外光（EUV）將在5奈米后成為曝光制程主流，京鼎延伸擴展高潔凈自動化設備研發技術，以精密定位精度與制程微環境監控技術，開發EUV光罩護膜貼合機，通過客戶制程驗證，成功跨入EUV光罩自動化領域。

京鼎董事長劉揚偉在致股東報告書中，宣布多項研發成果，5奈米半導體制程自動化惰性氣體充填設備及層流氣簾潔凈方案皆已量產并大量裝機，3奈米的半導體制程自動化惰性氣體充填設備及層流氣簾潔凈方案也順利通過客戶驗證。

劉揚偉指出，京鼎的機能水生成設備，完成5奈米制程量產，并導入3奈米制程驗證。標準型半導體晶圓分揀機，以及先進封裝制程復合式晶圓堆棧盒包裝拆包、分揀設備，陸續獲得晶圓制造及封測大廠采用。

劉揚偉表示，受惠市場轉趨熱絡，原客戶的訂單數量增加，加上開發新產品及新客戶，擴大市場占有率，預期今年銷售量將持續成長。

原文始發于微信公眾號（艾邦半導體網）：京鼎搶進EUV光罩自動化，3奈米方案通過客戶驗證