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光掩模是用于LSI等集成電路制造工序的重要器件。在透明玻璃板表面的遮光膜上蝕刻加工了非常微細的電路圖案，成為對硅晶圓復刻電路時的原版。將光掩模上的圖案縮小投射到硅晶圓上，形成微細的圖案。
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什么是光掩模
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將在光掩模表面形成的半導體器件的電路圖案，通過紫外線復刻到硅晶圓表面的光致抗蝕劑（感光樹脂）上。這時，圖案經(jīng)光刻機（曝光裝置）的縮小透鏡縮小至原來的四分之一。
什么是光掩模
圖??曝光處理
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光掩模的制造工藝
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根據(jù)電路圖案數(shù)據(jù)，采用電子束復刻技術(shù)在光掩?；迳闲纬裳谀D案，然后經(jīng)過蝕刻、去除感光樹脂、清洗、測定、檢查工序，最后完成光掩模的加工。
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1、光掩模底板
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什么是光掩模
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在以高精度研磨的高純度合成石英玻璃基板上蒸鍍鉻等，形成厚度為數(shù)十納米的遮光膜，這種狀態(tài)的玻璃基板被稱為光掩模底板
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什么是光掩模
2、繪圖
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什么是光掩模
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在光掩模底板表面均勻涂布光致抗蝕劑（感光樹脂），然后使用電子束繪制電路圖案。
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什么是光掩模
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3、顯影
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什么是光掩模
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去除經(jīng)電子束曝光的光致抗蝕劑（根據(jù)光致抗蝕劑的種類，也有去除未曝光部分的情況）。
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什么是光掩模
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4、蝕刻
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什么是光掩模
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采用反應性氣體對露出遮光膜的部分進行化學反應（干蝕刻）加工。
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什么是光掩模
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5、去除光致抗蝕劑
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什么是光掩模
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最后，去除光致抗蝕劑并清洗，制成光掩模。此后，光掩模經(jīng)過檢查工序等后出廠。
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什么是光掩模
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文章來源：凸版印刷
原文鏈接：
https://www.toppan.co.jp/electronics/sc/photo_mask/semicon/

原文始發(fā)于微信公眾號（艾邦半導體網(wǎng)）：什么是光掩模

作者 li, meiyong

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