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12月22日,電科材料下屬國盛公司南京外延材料產(chǎn)業(yè)基地項目第一枚硅基氮化鎵(GaN on Si)外延產(chǎn)品下線,標志著國盛公司已步入第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的快車道。
國盛公司第一枚硅基氮化鎵外延片正式下線
硅基氮化鎵材料擁有高頻率、低損耗、抗輻射性強等優(yōu)勢,同時整體具有更大的成本優(yōu)勢,具有極高的競爭力。國盛公司制備的硅基氮化鎵外延片,可以滿足電力電子用氮化鎵器件的需求。
自電科材料南京外延材料產(chǎn)業(yè)基地項目投產(chǎn)以來,大尺寸硅外延片、碳化硅外延片已先后實現(xiàn)客戶交付,如今高質(zhì)量的硅基氮化鎵外延材料順利下線,標志著國盛公司產(chǎn)品多元化布局初步完成。
下一步,國盛公司將繼續(xù)按照集團公司、電科材料戰(zhàn)略部署,著力加強關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān),完善產(chǎn)品設(shè)計和成果轉(zhuǎn)化,持續(xù)調(diào)整產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)和布局,實現(xiàn)核心關(guān)鍵材料的自主保障和高端半導(dǎo)體外延材料的自主創(chuàng)新發(fā)展,為電科材料成為世界一流的半導(dǎo)體材料創(chuàng)新中心和產(chǎn)業(yè)基地貢獻國盛力量。
來源:中電材料

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