CMP 拋光工藝是集成電路制造過程中晶圓表面平坦化的關(guān)鍵工藝，而 CMP 拋光墊是 CMP 拋光工藝中的核心耗材之一。隨著集成電路產(chǎn)業(yè)持續(xù)高速發(fā)展、晶圓廠大規(guī)模資本建設(shè)持續(xù)投入，以及集成電路制造技術(shù)不斷升級帶來的拋光次數(shù)的增加， CMP 拋光墊的市場前景廣闊。（https://www.ab-sm.com/）
然而，CMP 拋光墊具有高門檻、技術(shù)密集、資金密集、客戶驗證壁壘高的特點，CMP拋光墊市場幾乎都被美國、日本企業(yè)所壟斷，占據(jù)90%以上的市場份額。
圖 全球拋光墊市場份額，公開數(shù)據(jù)
隨著國內(nèi)半導體行業(yè)發(fā)展，CMP拋光墊需求不斷增大，帶動了國內(nèi)CMP拋光墊生產(chǎn)企業(yè)的發(fā)展，也有不少新入者加入，國產(chǎn)替代化加速。下面我們?yōu)榇蠹液唵谓榻B一下這些CMP拋光墊企業(yè)。如需補充，歡迎掃碼加入行業(yè)交流群與我們一起交流：
美國
1、杜邦DuPont
杜邦是化學機械平坦化 (CMP) 拋光墊、漿料和應(yīng)用專業(yè)知識的全球領(lǐng)導者，服務(wù)于半導體芯片制造行業(yè)和其他先進的基板拋光應(yīng)用。杜邦可提供全系列的拋光墊和拋光液，CMP拋光墊產(chǎn)品占全球市場份額75%以上。
官網(wǎng)：https://www.dupont.com/electronic-materials/cmp-pads.html
2、Thomas west Inc（TWI）
TWI成立于 1981 年，開始是提供用于硬盤驅(qū)動器 (HDD) 的拋光、紋理化和擦拭膠帶，在 1990 年代開始利用該技術(shù)嘗試進入 CMP 拋光墊市場，2000年推出CMP拋光墊產(chǎn)品。CMP拋光墊系列產(chǎn)品包括PuRa、WestPad。
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官網(wǎng)：https://www.twimaterials.com/cmp-products/
3、CMC Materials
CMC Materials原名卡博特微電子公司（Cabot Microelectronics Corporation），是一家為半導體制造提供關(guān)鍵材料的全球供應(yīng)商。CMP 拋光墊采用先進的聚氨酯化學和工程技術(shù)制造，可提供精確的硬度、孔徑、可壓縮性和凹槽圖案，以滿足各種 CMP 應(yīng)用的要求。CMP拋光墊系列產(chǎn)品包括NexPlanar ?、MEDEA 、Epic??、Epic Power。
2021年12月15日，Entegris宣布收購合并CMC Materials，該交易預(yù)計將于 2022 年下半年完成。
官網(wǎng)：https://www.cmcmaterials.com/
4、3M
3M公司創(chuàng)建于1902年，是一家世界知名的多元化科技創(chuàng)新企業(yè)。3M可提供創(chuàng)新、可靠的半導體CMP材料解決方案，包括 CMP 研磨墊和 CMP 研磨盤等。
3M? Trizact? 研磨墊結(jié)合了3M在造模、表面改質(zhì)和微復(fù)制方面的科學技術(shù)，為先進節(jié)點的半導體制造提供了化學機械拋光的創(chuàng)新研磨墊。
官網(wǎng)：https://www.3m.com.cn/
日本
5、富士紡FUJIBO
富士紡是半導體產(chǎn)業(yè)鏈重要供貨商，主要開發(fā)高附加價值的研磨材料及CMP制程中使用的拋光墊。POLYPAS? 拋光墊專為硅片和各類半導體材料、金屬、玻璃等的超高精度拋光而設(shè)計。
官網(wǎng)：https://www.fujibo.co.jp/en/division/polishingpad/product/
6、JSR
JSR利用在石油化學事業(yè)中積累的高分子技術(shù)，開發(fā)用于半導體制造的材料，如光刻膠、化學機械平坦化(CMP)材料等。JSR于2002年開始生產(chǎn)CMP拋光墊，由其位于四日市工廠內(nèi)的子公司Elastomix Co., Ltd. 生產(chǎn)。
官網(wǎng)：https://www.jsr.co.jp/
7、東麗Toray
日本東麗主要提供采用業(yè)界知名的不織布為底布的絨面拋光布以及精密單結(jié)構(gòu)的聚氨脂拋光墊類型。可應(yīng)用于各種精密加工拋光，包括硅片（晶圓），其CMP拋光墊產(chǎn)品于2006年開始出貨。
官網(wǎng)：https://www.toray.cn/products/electronics/ele_0130.html
8、Nitta DuPont
NITTA DuPont Incorporated 于 1983 年由工業(yè)皮帶市場的領(lǐng)先公司 NITTA Corporation 和半導體器件工藝拋光墊的頂級制造商 Rodel Inc.（現(xiàn)為杜邦）共同創(chuàng)立，雙方各持50%股份。NITTA DuPont生產(chǎn)拋光材料，產(chǎn)品包括用于 CMP 工藝的拋光墊、拋光液和其他相關(guān)材料。
官網(wǎng)：https://www.nittadupont.co.jp/
韓國
9、FNS Tech
FNS Tech Co.，LTD成立于2002年3月，是一家以平板顯示設(shè)備和半導體部件和材料技術(shù)為基礎(chǔ)的成長型公司。FNS Tech于2013年10 月開始半導體CMP拋光墊業(yè)務(wù)。2021年，F(xiàn)NS Tech與三星電子合作開發(fā)了CMP拋光墊可重復(fù)再利用技術(shù)。
官網(wǎng)：http://www.fnstech.com/chinese/cmp-pad/
10、SKC
SKC成立于1976年，是一家積極擴張領(lǐng)域并持續(xù)創(chuàng)造價值的尖端材料專業(yè)公司。SKC在存儲介質(zhì)和聚氨酯事業(yè)領(lǐng)域累積的技術(shù)能力，奠定了研發(fā)半導體專業(yè)材料CMP拋光墊和空白光掩膜的基礎(chǔ)，為半導體制造提供CMP拋光墊、CMP拋光液以及空白光掩膜等產(chǎn)品。
SKC從半導體CMP流程核心材料CMP拋光墊的原料（PRE-POLYMER）開始，逐步擴張至CMP 拋光液領(lǐng)域，計劃成為半導體材料領(lǐng)域的全球領(lǐng)先企業(yè)。
官網(wǎng)：http://www.skc.co.kr/
11、KPX chemical
KPX chemical 成立于1974年7月，致力于聚氨酯產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，生產(chǎn)和供應(yīng)各種國際水平的聚醚多元醇產(chǎn)品，2004年開始進軍電子材料事業(yè)（CMP拋光墊、光刻膠剝離劑等），開發(fā)有聚氨酯制成的CMP拋光墊 KONI 系列。
官網(wǎng)：http://www.kpxchemical.com/
中國臺灣
12、智勝科技股份有限公司（iVT）
智勝科技股份有限公司創(chuàng)立于2002 年，主要從事半導體CMP 耗材。集團母公司 PVI是做 PU 原料的專家，基于對 PU 原料技術(shù)厚實的經(jīng)驗，花了2年的時間分析專利并進行硏發(fā)，開發(fā)出可用于CMP拋光墊的獨特的發(fā)泡技術(shù)，在2002年成立智勝科技 iVT，正式踏入CMP拋光墊制造領(lǐng)域。
官網(wǎng)：https://www.ivt.com.tw/
13、貝達先進材料公司（三芳化學）
貝達先進材料公司成立于2006年，是三芳化學子公司，應(yīng)用特有的專利技術(shù)，專注研發(fā)、設(shè)計、測試與加工制造高精密度研磨拋光墊，產(chǎn)品應(yīng)用于微電子、顯示器、光學、晶體襯底材料與硬盤基版等各種需要精密化學機械研磨拋光(CMP) 的產(chǎn)業(yè)。
官網(wǎng)：http://www.bestac.com/products.php
中國大陸
14、湖北鼎龍控股股份有限公司
湖北鼎龍控股成立于2000年，是一家從事集成電路芯片設(shè)計及制程工藝材料、光電顯示材料、打印復(fù)印通用耗材等研發(fā)、生產(chǎn)及服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)，是國內(nèi)CMP拋光墊領(lǐng)先供應(yīng)商。
在產(chǎn)能方面，武漢本部年產(chǎn)10?萬片CMP拋光墊一期產(chǎn)線已投產(chǎn)，年產(chǎn)20萬片CMP拋光墊二期產(chǎn)線處于產(chǎn)能爬坡階段，潛江50萬片CMP拋光墊三期產(chǎn)線將在2022年年中進入設(shè)備調(diào)試、試運行階段。
官網(wǎng)：https://www.dl-kg.com/
15、寧波江豐電子材料有限公司
江豐電子自成立以來一直從事高純?yōu)R射靶材的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售業(yè)務(wù)。CMP產(chǎn)品主要有CMP用保持環(huán)（Retainer Ring）、拋光墊（Pad）、活化盤（Disk）以及組頭服務(wù)等。
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官網(wǎng)：http://www.kfmic.com
寧波贏偉泰科新材料有限公司成立于2019年1月，是一家高新電子材料開發(fā)制造企業(yè)，專業(yè)從事半導體芯片制造用化學機械拋光工藝耗材的研發(fā)及生產(chǎn)，主要產(chǎn)品為化學機械拋光墊和保持環(huán)兩大系列。贏偉泰科為江豐電子的關(guān)聯(lián)公司。
17、蘇州觀勝半導體科技有限公司
蘇州觀勝半導體科技有限公司是一家從事半導體集成電路和芯片相關(guān)材料的生產(chǎn)服務(wù)商，由張家港以諾天使源投資企業(yè)、梵爾辰半導體(上海)和臺灣智勝科技三方合資于2017年12月8日成立，面向國內(nèi)半導體市場生產(chǎn)以PU聚氨酯為基材制作的CMP拋光墊。
18、無錫吉致電子科技有限公司
吉致電子科技有限公司創(chuàng)始于1995年，主要研發(fā)生產(chǎn)拋光液、拋光墊等CMP化學機械研磨拋光材料，已有20余年的研發(fā)經(jīng)驗。產(chǎn)品廣泛適用于金屬、光電、集成電路半導體、硬盤、顯示器、陶瓷等行業(yè)。
官網(wǎng)：http://jzdz-wx.com/
19、上海芯謙集成電路有限公司
上海芯謙集成電路有限公司成立于2021年1月，主要從事半導體化學機械拋光耗材的生產(chǎn)與研發(fā)，致力于成為國內(nèi)領(lǐng)先的CMP耗材生產(chǎn)研發(fā)公司，2022年1月年產(chǎn)10萬片的半導體用拋光墊生產(chǎn)線投產(chǎn)運營。
20、合肥宏光研磨科技有限公司
合肥宏光研磨科技有限公司（原合肥宏光特種磨具廠）成立于1988年，是國內(nèi)光學玻璃及工藝玻璃磨具制造行業(yè)新興的高科技企業(yè)，開發(fā)有CMP拋光墊產(chǎn)品。
官網(wǎng)：http://www.hefeihongguang.com/
21、萬樺（常州）新材料科技有限公司
萬樺（常州）新材料科技有限公司，是一家具有現(xiàn)代新型管理模式和強大技術(shù)實力的聚氨酯（PU）新材料的綠色環(huán)保新型企業(yè)，是?家集研發(fā)、?產(chǎn)、檢測、營銷為?體的新型企業(yè)，年生產(chǎn)能力為700萬?以聚氨脂為主的高分子復(fù)合新材料。主要開發(fā)經(jīng)營3C類；藍寶石、硅片、鍺片、碳化硅、砷化鎵類；晶圓半導體類粗拋、精拋材料如：?磨?、拋光墊、阻尼布、吸附墊、無蠟墊。
官網(wǎng)：http://www.suwanhua.com/
22、萬華化學集團電子材料有限公司
據(jù)煙臺經(jīng)開區(qū)公開信息顯示，萬華化學集團電子材料有限公司擬在煙臺經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)進出口加工區(qū)內(nèi)建設(shè)大規(guī)模集成電路平坦化關(guān)鍵材料（CMP Pad + slurry）項目，項目投資15.7億元，達產(chǎn)年，研磨液產(chǎn)量1.5~2萬噸/年，CMP 拋光墊產(chǎn)量60萬片/年。
官網(wǎng)：https://www.whchem.com/
23、興硅科技（江蘇）有限公司
興硅科技（江蘇）有限公司的集成電路CMP關(guān)鍵材料項目于2022年1月17日簽約無錫宜興經(jīng)開區(qū)，該項目總投資45.9億元，分三期建設(shè)，其中一期計劃投資8.7億元，主要建設(shè)月產(chǎn)10000張研磨墊及500噸研磨液項目。
24、南通十方機電設(shè)備有限責任公司
公開資料顯示，南通十方機電設(shè)備有限責任公司成立于2021年2月，擬在江蘇啟東市租用南通義利達機電制造有限公司 生產(chǎn)廠房進行年產(chǎn) 500 噸芯片晶圓拋光墊生產(chǎn)項目，目前項目已備案。
原文始發(fā)于微信公眾號（艾邦半導體網(wǎng)）：20+家半導體CMP拋光墊生產(chǎn)企業(yè)名單
