據外媒報道，LG化學開始開發用于半導體后端工藝的光刻膠 (PR)，目標是向全球半導體公司供應這些光刻膠。為了提高芯片性能，他們在半導體前端工藝上雕刻超精細電路圖案后，正在開發用于后端工藝的PR。
據了解，LG化學最近開始與一家全球半導體公司合作開發后端工藝PR。一位材料行業負責人表示：“LG 化學其先進材料部門已投入到半導體后端工藝 PR 技術的開發中。基于他們在半導體后端工藝薄膜材料技術方面的專業知識，他們正在加快PR的研發速度。”
在韓國國內市場，LG 化學已經成功實現了半導體全工藝關鍵材料——極紫外（EUV）PR的國產化，目前正在繼續開發半導體后端工藝的PR。韓國企業正在積極進入以日本為首的公關市場。韓國企業正在積極進入以日本為首的光刻膠市場。
考慮到LG化學仍處于開發的早期階段，預計還需要一些時間，在現有材料開發成果的基礎上加快開發供應。
信息來源：Etnews
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原文始發于微信公眾號（艾邦半導體網）：LG化學計劃開發半導體后端工藝光刻膠