隨著新一代IGBT芯片及功率密度的進(jìn)一步提高,對功率電子模塊及其封裝工藝要求也越來越高,特別是芯片與基板的互連技術(shù)很大程度上決定了功率模塊的壽命和可靠性。傳統(tǒng)釬焊料熔點(diǎn)低、導(dǎo)熱性差,難以滿足高功率器件封裝及其高溫應(yīng)用要求。此外隨著第三代半導(dǎo)體器件(如碳化硅和氮化鎵等)的快速發(fā)展,對封裝的性能方面提出了更為嚴(yán)苛的要求。銀燒結(jié)技術(shù)是一種新型的高可靠性連接技術(shù),在功率模塊封裝中的應(yīng)用受到越來越多的關(guān)注。
一、銀燒結(jié)技術(shù)的優(yōu)勢特點(diǎn)
1.什么是銀燒結(jié)技術(shù)
20世紀(jì)80年代末期,Scheuermann等研究了一種低溫?zé)Y(jié)技術(shù),即通過銀燒結(jié)銀顆粒實(shí)現(xiàn)功率半導(dǎo)體器件與基板的互連方法。
圖 釬焊與銀燒結(jié)對比
銀燒結(jié)技術(shù)也被成為低溫連接技術(shù)(Low temperature joining technique,LTJT),作為一種新型無鉛化芯片互連技術(shù),可在低溫(<250℃)條件下獲得耐高溫(>700℃)和高導(dǎo)熱率(~240 W/m·K)的燒結(jié)銀芯片連接界面,具有以下幾方面優(yōu)勢:
表 互連材料性能對比
相對于焊料合金,銀燒結(jié)技術(shù)可以更有效的提高大功率硅基IGBT模塊的工作環(huán)境溫度及使用壽命。目前,銀燒結(jié)技術(shù)已受到高溫功率電子領(lǐng)域的廣泛關(guān)注,它特別適合作為高溫SiC器件等寬禁帶半導(dǎo)體功率模塊的芯片互連界面材料。
2.銀燒結(jié)技術(shù)原理
銀燒結(jié)技術(shù)是一種對微米級及以下的銀顆粒在300℃以下進(jìn)行燒結(jié),通過原子間的擴(kuò)散從而實(shí)現(xiàn)良好連接的技術(shù)。所用的燒結(jié)材料的基本成分是銀顆粒,根據(jù)狀態(tài)不同,燒結(jié)材料一般為銀漿(銀膏)、銀膜,對應(yīng)的工藝也不同:
圖 納米銀膏中分散劑、粘接劑和稀釋劑的作用原理
銀漿工藝流程:銀漿印刷——預(yù)熱烘烤——芯片貼片——加壓燒結(jié);
銀膜工藝流程:芯片轉(zhuǎn)印——芯片貼片——加壓燒結(jié)。
芯片轉(zhuǎn)印是指將芯片在銀膜上壓一下,利用芯片銳利的邊緣,在銀膜上切出一個(gè)相同面積的銀膜并粘連到芯片背面。
圖 銀燒結(jié)技術(shù)工藝流程
以納米銀漿為例,如下圖所示,在燒結(jié)過程中,銀顆粒通過接觸形成燒結(jié)頸,銀原子通過擴(kuò)散遷移到燒結(jié)頸區(qū)域,從而燒結(jié)頸不斷長大,相鄰銀顆粒之間的距離逐漸縮小,形成連續(xù)的孔隙網(wǎng)絡(luò),隨著燒結(jié)過程的進(jìn)行,孔洞逐漸變小,燒結(jié)密度和強(qiáng)度顯著增加,在燒結(jié)最后階段,多數(shù)孔洞被完全分割,小孔洞逐漸消失,大空洞逐漸變小,直到達(dá)到最終的致密度。
圖 銀漿燒結(jié)互聯(lián)示意圖
燒結(jié)得到的連接層為多孔性結(jié)構(gòu),孔洞尺寸在微米及亞微米級別,連接層具有良好的導(dǎo)熱和導(dǎo)電性能,熱匹配性能良好。
圖 燒結(jié)銀-電鍍鎳互連界面形貌
二、銀燒結(jié)技術(shù)在功率模塊封裝的應(yīng)用
作為高可靠性芯片連接技術(shù),銀燒結(jié)技術(shù)得到了功率模塊廠商的廣泛重視,一些功率半導(dǎo)體頭部公司相繼推出類似技術(shù),已在功率模塊的封裝中取得了應(yīng)用。
圖 SiC MOSFET封裝模塊剖面圖,來源:銦泰
2006年,英飛凌與開姆尼茨工業(yè)大學(xué)(Chemnitz University of Technology)等高校,采用銀燒結(jié)技術(shù)的功率模塊進(jìn)行了高溫循環(huán)測試。在Easypack功率模塊中分別采用了單面銀燒結(jié)技術(shù)和雙面銀燒結(jié)技術(shù),測試結(jié)果表明,相對傳統(tǒng)軟釬焊工藝模塊,采用單面銀燒結(jié)技術(shù)的模塊壽命提高5~10倍,采用雙面銀燒結(jié)技術(shù)的模塊壽命提高10倍以上。2012年,英飛凌推出.XT封裝連接技術(shù)(英飛凌高可靠封裝與互連技術(shù)的統(tǒng)稱),采用了擴(kuò)散焊接工藝,在封裝中實(shí)現(xiàn)了從芯片到散熱器的可靠熱連接。
圖 大功率IGBT模塊中的.XT技術(shù),來源:英飛凌
2007年,賽米控推出的功率模塊技術(shù)SKiNTER,利用精細(xì)銀粉,在高壓及大約250°C溫度條件下燒結(jié)為低氣孔率的銀層。其功率循環(huán)能力提升二至三倍,而且高運(yùn)行溫度下的燒結(jié)組件長期可靠。如下圖所示,與燒結(jié)模塊相比,焊接模塊由于散熱性差,很早就會(huì)因焊接老化引起芯片溫度上升。芯片與DCB之間為燒結(jié)結(jié)合的模塊使用壽命更長。
圖 焊接功率模塊與燒結(jié)功率模塊最終的失效機(jī)理,來源:賽米控
圖 焊接功率模塊與燒結(jié)功率模塊最終的失效機(jī)理,來源:賽米控
2015年,三菱電機(jī)采用銀燒結(jié)技術(shù)制作出功率模塊,循環(huán)壽命是軟釬焊料(Sn-Ag-Cu-Sb)的5倍左右,并且三菱電機(jī)自主開發(fā)了加壓燒結(jié)的專用設(shè)備。
如今,銀燒結(jié)技術(shù)已經(jīng)成為寬禁帶半導(dǎo)體功率模塊必不可少的技術(shù)之一,隨著寬禁帶半導(dǎo)體材料(SiC、GaN)的發(fā)展,銀燒結(jié)技術(shù)將擁有良好的應(yīng)用前景。
參考資料:
1.銀燒結(jié)技術(shù)在功率模塊封裝中的應(yīng)用,李聰成,滕鶴松等;
2.納米銀焊膏無壓低溫?zé)Y(jié)連接方法的絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)模塊封裝應(yīng)用研究,付善燦;
3.高功率IGBT芯片的瞬時(shí)低溫?zé)Y(jié)互連方法及其性能研究,封雙濤;
4.燒結(jié)工藝對納米銀焊膏微觀結(jié)構(gòu)的影響,王一哲;
5.Silver Sintering for Silicon Carbide Die Attach: Process Optimization and Structural Modeling,Michele Calabretta,Alessandro Sitta and etc.
6.無壓燒結(jié)銀與化學(xué)鍍鎳(磷)和電鍍鎳基板的界面互連研究,王美玉,梅云輝等。
原文始發(fā)于微信公眾號(艾邦半導(dǎo)體網(wǎng)):銀燒結(jié)技術(shù)在功率模塊封裝中的應(yīng)用