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4月9日,合肥世紀金芯半導體有限公司宣布,基于設備、工藝、熱場、原料、結構設計等多方面的長期技術積累,突破了8英寸SiC關鍵技術,在晶體尺寸、厚度、缺陷控制、生長速率、制備成本、及裝備穩定性等方面取得可喜成績。
世紀金芯突破8英寸SiC關鍵技術
具體而言,世紀金芯開發的8寸SiC單晶生長技術可重復生長出4H晶型100%、直徑大于200mm、厚度超過10mm的晶體。通過進一步優化工藝,預期世紀金芯的8寸SiC晶錠厚度將達到20mm以上。
同時,世紀金芯8寸加工線也同步建成,將配套8寸單晶生長。2024年2月,世紀金芯半導體8英寸SiC加工線正式貫通并進入小批量生產階段,在8英寸SiC襯底量產方向更進一步。
為實現這一突破,世紀金芯半導體具體采取了以下三個關鍵步驟:
1.模擬優化,減少研究成本,獲得預期的溫場情況
世紀金芯采用模擬軟件,首先對坩堝、保溫層和加熱器等組成的熱場進行模擬計算,營造符合實際生長過程的溫度和溫度梯度。并通過多次優化數據庫參數,準確反映出溫場及余料情況,生長晶體的4H-SiC晶型穩定性在90%以上。同時,合理的溫度梯度降低了晶體的凸度,有效降低了晶體開裂風險,提高了原料利用率和晶體出片數量。
世紀金芯突破8英寸SiC關鍵技術
2.設計實驗,驗證生長晶體預期,獲得可重復性參數
基于6英寸晶體研發生產經驗,結合8英寸晶體生長的熱場結構設計及工藝特性,在高穩定性長晶爐的基礎上,世紀金芯半導體采取了獨特的保溫設計和先進的熱場分區結構,開發出適用于8英寸SiC穩定生長的工藝技術,逐步減少生長溫度、時間、氣壓、功率等參數變化量,獲得可重復性穩定參數,大幅提升了長晶的穩定性、重現性。突破了大尺寸、低應力等碳化硅晶體制備關鍵技術。
世紀金芯突破8英寸SiC關鍵技術
3.不斷開發新結構、新技術,獲得低缺陷單晶
世紀金芯半導體掌握多種自研結構及技術,包括籽晶預處理粘接、低應力生長結構設計及工藝等,為8英寸晶體量產打下了重要基礎。采用籽晶迭代優化的方式,進一步降低了位錯缺陷密度,通過設計不同過濾層及多段溫度調控,對碳包裹物起到抑制作用,有效減少了包裹引起的一系列缺陷。
資料來源:世紀金芯

原文始發于微信公眾號(艾邦半導體網):世紀金芯突破8英寸SiC關鍵技術

作者 li, meiyong

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