(1)磁控濺射過程中放電不正常主要表現為，電壓升至400V后發生過流；或放電不集中在靶面，而由靶伸向放電室，還伴隨產生放電現象。其成因及對策為：濺射與轟擊轉換接觸器失靈，使濺射變為轟擊。應使濺射與轟擊轉換器的按鍵開關控制靈敏，交流接觸器應工作正常。
(2)真空度太低。應適當提高。一般真空度應控制在(6.67—13.3)x10—’h
(1)新靶過流主要是由于靶表面有殘存的氧化物和污垢，或氬氣不純，氬氣的氣體分量波動。應將新靶反復濺射數次，除去污垢及氧化層；或提高氬氣純度，調節氬氣壓力以及保證減壓閥工作正常。
(2)穩定工作的靶發生過流主要是由于屏蔽罩和絕緣子上有雜物或尖端放電及短路現象，或充氣系統有微小漏氣。應排除屏蔽罩和絕緣子上的短路現象以及充氣系統的漏氣現象。
(1)靶的冷卻水供應不足。應通人足夠的冷卻水。由于磁控源工作時要承受較大的功率，必須進行足夠的冷卻才能正常工作。
(2)冷卻水溫度太高或斷水，靶體發熱。應適當提高冷卻水的流量和壓力。如果在工作狀態下發生斷水故障，應立即斷開濺射電源，讓其自然冷卻到60-80~C左右才能通人冷卻水，否則，磁環會因驟冷而炸裂
(1)真空度低于0.67Pa。應將真空度提高到0.13-0.4Pa。
(2)氬氣純度低于99．9％。應換用純度為99．99％的氬氣。
(3)充氣系統漏氣。應檢查充氣系統，排除漏氣現象。
(4)底漆未充分固化。應適當延長底漆的固化時間。
(5)鍍件放氣量太大。應進行干燥和封孔處理
(1)底漆固化不良或變質。應適當延長底漆的固化時間或更換底漆。
(2)濺射時間太長。應適當縮短。
(3)濺射成膜速度太快。應適當降低濺射電流或電壓
(1)底漆噴涂得不均勻。應改進底漆的施涂方法。
(2)膜層太薄。應適當提高濺射速度或延長濺射時間。
(3)夾具設計不合理。應改進夾具設計。
(4)鍍件的幾何形狀太復雜。應適當提高鍍件的旋轉速度
(1)底漆噴涂得太厚。應控制在7—lOtan厚度范圍內。
(1)鍍件清洗后未充分干燥。應加強鍍前處理。
(2)鍍件表面濺上水珠或唾液。應加強文明生產，操作者應帶口罩。
(3)涂底漆后手接觸過鍍件，表面留下指紋。應嚴禁用手接觸鍍件表面。
(4)涂料中有顆粒物。應過濾涂料或更換涂料。
(5)靜電除塵失效或噴涂和固化環境中有顆粒灰塵。應更換除塵器，并保持工作環境的清潔
(2)真空室內不清潔。應清洗真空室。值得注意的是，在裝靶和拆靶的過程中，嚴禁用手或不干凈的物體與磁控源接觸，以保證磁控源具有較高的清潔度，這是提高膜層結合力的重要措施之一。
來源：http://www.b2b99.com/zhishi/sl/233453.htm
原文始發于微信公眾號（艾邦車衣膜論壇）：磁控濺射鍍膜的故障排除方法
