乘著半導(dǎo)體行業(yè)快速發(fā)展的東風(fēng)，芯片產(chǎn)業(yè)鏈的中游，即半導(dǎo)體制造過程中最重要也最復(fù)雜的環(huán)節(jié)，理所當(dāng)然地成為了大家關(guān)注的焦點(diǎn)。該環(huán)節(jié)主要的工藝流程包括光刻、刻蝕、薄膜沉積等。投入巨大，進(jìn)入門檻極高，很多關(guān)鍵設(shè)備由少數(shù)國(guó)際巨頭把控，國(guó)產(chǎn)替代勢(shì)在必行。
作為國(guó)內(nèi)高端薄膜沉積設(shè)備的開創(chuàng)者與引領(lǐng)者，韞茂科技不斷突破技術(shù)壁壘，專注于鋰電池、光伏、Mini/Micro LED、先進(jìn)光學(xué)、碳化硅、集成電路、超導(dǎo)材料和器件等前沿泛半導(dǎo)體及新能源薄膜沉積設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)。目前已形成了以ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng)、CVD化學(xué)氣相系統(tǒng)、Epitaxy外延爐等一系列薄膜沉積設(shè)備為核心的產(chǎn)品矩陣。公司目前已擁有各類專利技術(shù)近50項(xiàng)，入選國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)及廈門專精特新技術(shù)企業(yè)。
PBATCH批次等離子體ALD
?全自動(dòng)、多片、大批量生產(chǎn)；
?批次等離子體ALD可為客戶帶來更多功能性薄膜選擇；
?可提高ALD產(chǎn)能，降低客戶使用成本，實(shí)現(xiàn)極致COO；
?可在光學(xué)薄膜沉積上實(shí)現(xiàn)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化替代；
?工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)安全互鎖、報(bào)警、EMO。
KG生產(chǎn)型粉末ALD
?采用韞茂科技獨(dú)有的ALD粉體技術(shù)；
?立式提料分散，配合底部進(jìn)氣方案，保證粉體與前驅(qū)體充分接觸，有效提高包覆均勻性和高覆蓋率；
?包覆大比表面積材料的厚度僅為傳統(tǒng)方式的1/100，甚至1/1000；
?包覆材料品質(zhì)優(yōu)異，材料成分可實(shí)現(xiàn)原子層級(jí)別單相或多相設(shè)計(jì)；
?KG系列設(shè)備的樣品裝載量最大每批次可達(dá)百公斤，大幅降低生產(chǎn)制造成本；
?批次包覆均勻性＜±3%，精度可達(dá)原子級(jí)別；
?可提升量子點(diǎn)、鋰電池、催化劑等的循環(huán)壽命、安全性以及耐溫耐壓性。
SICE Y6碳化硅外延CVD系統(tǒng)
?工藝穩(wěn)定，可有效延長(zhǎng)維護(hù)周期，降低使用成本；
?采用自有的進(jìn)氣噴嘴設(shè)計(jì)，提供高自由度的外延窗口；
?可有效改善既有外延摻雜均勻性不佳的問題；
?可大幅提升設(shè)備稼動(dòng)率，從而提升元件良率，與客戶達(dá)到雙贏目標(biāo)。
原文始發(fā)于微信公眾號(hào)（艾邦半導(dǎo)體網(wǎng)）：國(guó)產(chǎn)化替代！韞茂科技全棧式薄膜沉積方案，加速國(guó)內(nèi)芯片發(fā)展進(jìn)程