3月13日，據日媒報道，三菱電機在日本熊本縣菊池市舉行新功率半導體工廠奠基儀式。該工廠將生產新一代具有高效性能的SiC（碳化硅）襯底產品，并于4月開始施工，目標在兩年內竣工并投入運營。
圖為三菱電機和ROHM的功率半導體生產基地
新工廠將位于三菱電機子公司的前液晶相關工廠的舊址，建設一棟6層樓建筑，總面積達42,000平方米。
作為SiC半導體的核心生產基地，該工廠計劃采用自動化生產線，包括引進無人機器人等措施以節省勞動力。通過采用最新的設施，預計將減少約30%的用水量，并能將約70%的廢水回收再利用。
功率半導體是控制電力的半導體器件，其中SiC比傳統材料硅具有更高能效。由于全球脫碳計劃和電動汽車（EV）的普及，其市場需求正在迅速增長。三菱電機半導體與設備業務部高級執行官Masayoshi Takemi表示：“我們希望通過這座采用尖端技術的工廠，為全球脫碳做出貢獻。
原文始發于微信公眾號（艾邦半導體網）：三菱電機新建碳化硅工廠，目標兩年投入運營